同济大学精密光学工程技术研究所成立于2002年5月，隶属于先进微结构材料教育部重点实验室和同济大学物理系。该研究所依托于同济大学光学与光学工程学科的研究实力，致力于光学领域的基础性和应用基础研究。
科研定位
研究所紧密围绕国际学科前沿和国家战略需求，聚焦光与物质的相互作用，开展光学计量技术、尖端光学薄膜技术、极紫外与软X射线及X射线多层膜光学技术、先进成像光学技术、超精密光学制作工艺技术等方面的研究工作。其目标在于推动国际前沿性的基础和应用基础研究，解决关键技术难题，为中国光学与光学工程领域的发展提供前瞻性的研究成果，并培养高级科学技术人才。
国际合作
同济大学精密光学工程技术研究所积极拓展国际合作与交流，目前已与美国、德国、法国、英国、日本、俄罗斯、白俄罗斯等多个国家的十余所大学和科研机构建立了合作伙伴关系。此外，研究所还派遣了三名留学生前往海外深造。
研究方向
光学计量技术
该研究方向专注于纳米长度标准的应用背景，通过激光冷却原子和激光汇聚原子的方法，深入探究可追溯至激光波长的纳米结构的制造原理、技术和表征新途径。
尖端光学薄膜技术
本方向以高强度激光为应用背景，利用离子束辅助电子束蒸发技术开发高性能光学薄膜，并对薄膜的力学、热学和光学特性进行全面测量，构建高强度激光与光学薄膜相互作用的模型，探讨激光损伤薄膜的机理，探索新型高性能光学薄膜的设计、制备、表征及其应用。
极紫外与软X射线及X射线多层膜光学技术
该研究方向结合同步辐射、稠密等离子体诊断、天文学等领域的需求，使用磁控溅射方法研发高性能极紫外与软X射线及X射线多层膜，系统研究多层膜的微结构、成分、界面状态等物理化学特性，揭示多层膜宏观性能与其微观特性的关联，探索新型多层膜的设计、制备、表征及其应用。
先进成像光学技术
这一方向重点关注稠密等离子体诊断和精密光学系统应用，系统研究特殊要求光学系统的设计方法，探索光学系统高精度装配的技术与方法，建立先进的光学系统表征技术，研制适用于不同应用场景的高性能光学系统。
超精密光学制作工艺技术
该研究方向面向极紫外与软X射线及X射线元件与系统的特殊需求，深入研究超光滑和特殊曲面光学元件的加工与性能表征方法与技术，开发新型光学元件加工设备，揭示超光滑与特殊曲面加工工艺的规律，研制出相应光学元件。
参考资料 >
同济大学精密光学工程技术研究所.职友集.2024-10-24
同济大学精密光学工程技术研究所.八戒科技服务 .2024-10-24
简介.同济大学精密光学工程技术研究所 .2024-10-24